MĚŘICÍ TECHNIKY:

Plazmochemická depozice a leptání - PECVD, RIE, ALD


Suché plazmové leptání je základním kamenem výroby mikroelektroniky, zejména díky jednoduchosti použití, homogenitě, opakovatelnosti a vysoké anizotropii.

Využitím plazmatu v technikách plazmochemické depozice je možné významně snížit teplotu substrátu a připravit nové vrstvy mimo podmínky termodynamické rovnováhy. U kapacitně vázaného plazmatu (CCP) je navíc vždy přítomný významný iontový bombard, u induktivně vázaného plazmatu (ICP) je možno dosáhnout vysokých hustot plazmatu, a tedy i vyšší depoziční rychlosti.

SENTECH nabízí aparatury pro depozici i leptání s CCP i ICP zdroji plazmatu, techniku ALD (Atomic layer deposition) s využitím plazmatu a také zapojení těchto aparatur do větších klastrů s transferem vzorků a diagnostikou.

Stránky aparatur SENTECH


      • ICP RIE leptací aparatura SI 500
      • CCP RIE leptací aparatura Etchlab 200
      • CCP RIE leptací aparatura SI 591 compact
      • ICPECVD depoziční aparatura SI 500 D
      • PECVD depoziční aparatura SI 500 PPD
      • PECVD depoziční aparatura Depolab 200
      • Depoziční systém SI ALD
      • Klastry pro depozice a leptání SENTECH
      • nanoETCH Moorfield

  Kontakty:


Měřicí technika Morava s.r.o, Babická 619, 664 84 Zastávka u Brna, Česká republika

e-mail: info@mt-m.eu         tel: + 420 513 034 408               podrobné kontakty:         on line schůzka:

Napište nám: