Klastry pro depozice a leptání

Klastry s vysokou prostupností pro výzkum a vývoj

Klastrové nástroje SENTECH mohou obsahovat všechny přístroje firmy SENTECH pro leptání a depozice společně s vakuovými zakládacími komorami a kazetovými stanicemi. Centrem klastru je komora pro přesun mezi moduly s manipulačním robotem, která může být vybavena třemi až šesti porty. SENTECH dodává klastry orientované dvěma hlavními směry – s vysokou prostupností waferů pro průmysl a pro oblast výzkumu a vývoje. 

Klastr s vysokou prostupností

Moduly pro plazmové leptání a depozici mohou být kombinovány s až dvěma kazetovými stanicemi pro vysokou prostupnost pro wafery až do 200 mm. Klastr je ovládán dedikovaným software orientovaným pro potřeby průmyslu.

Klastr pro výzkum vývoj

Komory pro přesun jsou dostupné pro klastrování přístrojů pro ICP a RIE plazmové leptání, ALD, PECVD A ICPECVD depozice, tak aby splnily požadavky zákazníků z oblasti vývoje a výzkumu. Vzorky lze zakládat přes load lock nebo kazetovou stanici. Klastr je ovládán standardním softwarem firmy SENTECH s jedním grafickým uživatelským rozhraním.