Depoziční systém SI ALD

ALD/PEALD s vzdáleným zdrojem plazmatu pro citlivé vzorky

SI ALD systém firmy SENTECH je možné použít ve standardním tepelném režimu nebo v režimu s využitím plazmy, který dovoluje homogenní a konformní depozici na citlivé vzorky za nízké teploty (< 100°C). SI ALD lze konfigurovat pro depozici oxidů, nitridů a kovů; jednotlivé tepelné a plazmové procesy lze v SI ALD kombinovat pro přípravu vrstevnatých struktur.

SENTECH k SI ALD nabízí špičkový systém pro monitorování růstu vrstvy po vrstvě v reálném čase ALD Real Time Monitor. Pravidelné čistění SI ALD systému je usnadněno možností jednoduše otevřít reaktorovou komoru.

SI ALD systémy jsou dostupné také jako moduly pro integraci do klastrů SENTECH. Mohou být tak zkombinovány s PECVD a leptacími systémy s možností předávání z waferu z kazety na kazetu.